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大書城 以“ 全文 模式”搜“ 伍强 等 ”共有 4 结果: 同時支援繁體 / 正體 / 简体字輸入搜索
现代集成电路工厂中的先进光刻工艺研发方法与流程 现代集成电路工厂中的先进光刻工艺研发方法与流程
『简体书』 作者:李艳丽、伍强  出版:清华大学出版社  日期:2024-09-01
本书基于作者团队多年的光刻工艺(包括先进光刻工艺)研发经验,从集成电路工厂的基本结构、半导体芯片制造中常用的控制系统、图表基本内容出发,依次介绍光刻基础知识,一个6晶体管静态随机存储器的电路结构与3个关键技术节点中SRAM 制造的基本工艺流程,光刻机的发展历史、光刻工艺8步流程、光刻胶以及掩模版类 ...
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售價:HK$ 147.2

生态酿酒新技术及应用 生态酿酒新技术及应用
『简体书』 作者:余有贵 著,伍强 编  出版:中国轻工业出版社  日期:2025-08-01
在酿酒行业新质生产力赋能的高质量发展新阶段,《生态酿酒新技术与应用》应运而生。该书系统介绍了生态酿酒概述、生态化酒曲生产技术、窖池窖泥微生态技术、生态化原料种植与预处理技术、生态化发酵与蒸馏技术、生态化贮存与勾调技术、生态化检测新技术、生态化副产物高值利用技术、生态化白酒包装技术、生态化管理信息技术 ...
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售價:HK$ 96.8

衍射极限附近的光刻工艺 衍射极限附近的光刻工艺
『简体书』 作者:伍强 等  出版:清华大学出版社  日期:2020-02-01
为了应对我国在集成电路领域,尤其是光刻技术方面严重落后于发达国家的局面,破解光刻制造设备、材料和光学邻近效应修正软件几乎完全依赖进口的困境,作为从事光刻工艺研发近 20 年的资深研发人员,作 者肩负着协助光刻设备、材料和软件产业链共同研发和发展的责任,将近 20 年的学习成果和研发经验汇编 成书, ...
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售價:HK$ 221.8

衍射极限附近的光刻工艺(第2版) 衍射极限附近的光刻工艺(第2版)
『简体书』 作者:伍强、胡华勇、何伟明、岳力挽、张强、杨东旭、黄怡、李艳丽  出版:清华大学出版社  日期:2024-11-01
为了应对我国在集成电路领域,尤其是光刻技术方面严重落后于发达国家的局面,破解光刻制造设备、材料和光学邻近效应修正软件几乎完全依赖进口的困境,作为从事光刻工艺研发近 20 年的资深研发人员,作者肩负着协助光刻设备、材料和软件产业链共同研发和发展的责任,将为了应对我国在集成电路领域,尤其是光刻技术方面 ...
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售價:HK$ 404.8

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